智妙手机和良多其中微电子武器防具的经常增长可只不过汇总综合评估为" 更小、迅速、更做强 "。某些武器防具的焦聚是微处理集成块，当做该增长的几局部，微处理集成块也应该要看上去更小、更强。曩昔在这类本质属性已完成了精彩绝伦的停顿，但良多设计制作学手艺这一刻已来到了终极。由设在维也纳的 IMS 納米制作方法无限大的机构开发的问题立名活儿 ：電子多光线掩摹写入器（electron multi-beammask writer），将成为转移了现今终极的治疗工作规划。该极品传奇装备的关头组件出自于弗劳恩霍夫硅活儿座谈所（FraunhoferISIT）。弗劳恩霍夫硅活儿座谈所和 IMS 納米激光加工制作无限大的机构顺利地对的微网络体系电源开关组件结束了 MEMS 激光加工制作，该组件是電子束掩模机的聚焦，是主产地全新一代人微IC芯片的关头极品传奇装备。我们的尽可能为我们博取了 2021 年约瑟夫 - 冯 -弗劳恩霍夫奖（Joseph von Fraunhofer Prize）。Fraunhofer ISIT的马丁-维特说 ：“之间，只会在集成电路电子器件上进行稍低一些于 10 微米的工序图片尺寸图 - 一家分子是 0.1 微米- 但新的加工体例使 7 微米及下面的工序图片尺寸图称得上就能也许。”这在全小说天下全都是很是腾讯会员的，智能电子多激光束掩摹写入器是欧比奥能使集成电路电子器件全面一个脚印全自动化的活儿。在传统化的单片机单片机电源电源芯片产出中，半导体行业材质 硅的晶圆被的平均地涂上光刻胶，它是经过了前进行程将其裸漏在方向光茫下终止软融化。未软融化的中北部被移除，而硅则在暴光中北部终止制作加工。而为，软融化的光刻胶局部位也被移除，完全前进行程重头起头。它是经过了前进行程这种体例，单片机单片机电源电源芯片被1层1层地建设出来了 -- 对繁杂的单片机单片机电源电源芯片，和需要多大 70 次暴光。为了能确保光自然环境盯上需要软融化的光刻胶中北部，而将此外中北部停留在黑背地里，进行了种类掩模。这稀便单片机单片机电源电源芯片的体例产出，但在这种自然环境下，电子元器件束被常做软融化光刻胶。广泛性新体例的首要任务标志性是什莫？坎普曼解读说 ：“你们利于 512×512 的激散射，即走向 262,000 个激散射，而并非用一激散射在手机元器件强烈的光刻胶上誊写掩模结构。”这只是途经过程中 Fraunhofer ISIT 的一 MEMS 电控制开关构件进行的，它情况上组成的了广泛性新的多激散射掩膜读取数据器的主角。简洁明了地说，某些微风险管理体系电控制开关构件就如同一有走向 262,000 个启齿的pe膜，许可证手机元器件束途经过程中。但与淋浴头头的水柱区分，某些激散射并并非平形机器运行的。相反的词语，它是就能够可能被专门的合理电极材料零丁合理和从头到尾定向生。

電子多光柱掩摹写入器成功艺设计尺寸大于10nm的微单片机芯片的标新立异艺设计。阿塔体洛夫補充说 ：“智能技术多光柱掩模机使你们能即使在仅仅三个小时内内确立高品位保证和高分辩率的繁杂的战略布局。”欧比奥还不什么手工艺能即使与立名的智能技术多光柱掩模机相比得上。是以，市場面有很多的须要，这类传奇装备为 IMS 机构面临了4亿美圆的年性收支。企业性收支此时此刻各个方面年而我转变一百二万美元。这一项受奖手工艺不只使进每一步的小形化难于完毕，还有就是还面临了璀灿的国际贸易获得。

约瑟夫-冯-弗劳恩霍夫奖

自1978 年的话，弗劳恩霍夫公司某一年都为其员工辞职操作本质主题 的精彩绝伦相信有成绩排名发放个人奖。本年度，将发放几个个人奖，某一位个人奖理智 50,000 欧。获奖作品者还将得到一种上有约瑟夫 - 冯 - 弗劳恩霍夫概述的银质胸针。